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              化學濕臺

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              設備名稱

              化學濕臺

              用途

              濕法 清洗 腐蝕

              操作方式

              手動/半自動/自動

              適用領域

              半導體材料、集成電路、MEMS、LED芯片、功率器件等

              適用工藝

              酸洗、堿洗、有機清洗、刻蝕、超聲(兆聲清洗)、QDR清洗、顯影、去膠、電鍍、旋干

              清洗方式

              槽式清洗 單片清洗

              可清洗尺寸

              2吋--12吋

              藥液供給

              手動/自動

              主體材質

              PP PVC不銹鋼

              槽體材質

              石英、PVDF、PTFE、NPP、 不銹鋼等

              溫控精度

              ±1℃

              安全防護

              自動安全門、漏液報警、漏電保護、液位保護、急停、聲光報警系統

              模塊化設計

              滿足客戶多種工藝及產能的定制化要求

              可編程菜單,方便用戶操作,直觀

              實時流程顯示,可控性強

              多級密碼,方便管理,安全可靠

              自動保存生產數據

              可實現遠程控制

              可實現功能

              藥液管理系統(自動供液、自動補液、循環過濾)、在線加熱、甩干、電導率檢測、恒溫系統、百級FFU、自動滅火等

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